UPOLabs亮相LTO2026,展示光场调控与计算成像创新成果
2026-06-15

6月12日至15日,第二十一届全国激光技术与光电子学学术会议(LTO2026)在长沙举行。作为国内激光与光电子领域规模最大、影响力最广的中文学术会议之一,大会汇聚了众多高校、科研院所及行业专家,共同探讨激光与光电子技术领域的最新研究进展。

上海瑞立柯信息技术有限公司(以下简称“UPOLabs”)携涡旋光束实验系统、单像素成像实验系统以及全新HDSLM80R DC800高效率液晶空间光调制器亮相大会,展示公司在空间光调制、光场调控与计算成像领域的技术积累与创新成果。

UPOLabs亮相LTO2026,展示光场调控与计算成像创新成果

UPOLabs展台

本次大会期间,UPOLabs推出的HDSLM80R DC1064高效率液晶空间光调制器因最近荣获“2025年度中国十大光学产业技术-创新奖”而受到广泛关注。产品采用介质镀膜与创新散热设计,实现更高反射效率与热稳定性,可广泛应用于量子精密测量、原子操控、生物成像、粒子捕获及光镊等前沿研究领域。

UPOLabs亮相LTO2026,展示光场调控与计算成像创新成果