HDSLM80R DC800

HDSLM80R-DC800针对量子研究领域客户反馈问题优化,瞄准800nm吸收峰进行专门膜系设计,区别于传统铝膜,采用介质膜工艺将波长范围内反射率最高提升至92%,精心设计的水冷散热结构,热稳定性提升10倍。广泛应用于光遗传学生物成像金刚石切割特种材料加工量子精密测量光场调控原子操控、粒子捕捉光镊等领域。


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产品概述

◆介质镀膜工艺

◆模拟驱动电路

◆独特结构设计

◆为量子研究迭代开发

◆反射率最高提升至92%

◆热稳定性提升10倍

产品参数

型号HDSLM80R DC800
调制类型相位型
像素尺寸8μm
分辨率1920*1200
反射率Typ:89%     Max:92%
适用波长800±30nm
衍射效率(16阶)85%
相位能力2.39π@808nm
相位稳定性~0.003π
相位线性度R²>99.98%
损伤阈值100W/cm²
数据位深8bit / 10bit



产品图纸

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